【資料圖】
1、 《等離子體處理裝置》是沈陽拓荊科技有限公司于2013年11月22日申請的專利，該專利的公布號為CN103632998A，申請公布日為2014年3月12日，發(fā)明人是凌復華、劉憶軍、吳鳳麗、姜崴、葛研、鄭旭東。該發(fā)明涉及半導體制造領(lǐng)域技術(shù)。
2、 《等離子體處理裝置》其包括：第一處理腔，具有第一墻及由第一墻包圍形成的第一處理空間；第二處理腔，具有第二墻及由第二墻包圍形成的第二處理空間；設置于第一處理腔與第二處理腔之間的連接件，第一、第二處理腔可拆卸地連接；氣體供應系統(tǒng)以及排氣系統(tǒng)，包括連通于所述第一處理空間的第一排氣通道及連通于所述第二處理空間的第二排氣通道，所述第一排氣通道與所述第二排氣通道相連通。該發(fā)明通過將多個處理腔以可拆卸方式進行連接，在實現(xiàn)兩腔環(huán)境匹配的同時，降低設備的制造及維修成本。
3、 2017年12月11日，《等離子體處理裝置》獲得第十九屆中國專利優(yōu)秀獎。
4、 （概述圖為《等離子體處理裝置》摘要附圖）
關(guān)鍵詞： 等離子體 處理裝置 方式進行 有限公司
責任編輯：Rex_05
